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離子源雙靶磁控濺射鍍...離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
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桌面型磁控濺射鍍膜儀...磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積
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雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
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桌面型有機源蒸發鍍膜...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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非自耗型高真空電弧爐超高溫大容量非自耗型高真空電弧爐是我公司根據科研單位實驗要求精心研發設計的一款主要用于：熔煉難熔金屬及合金，可進行冶煉、提純、脫氧、除雜等。特別適合高校及科研院所進行新材料的真空冶煉或小批量制備
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換位自轉等離子鍍膜儀本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位，樣品臺可在兩個靶位自由切換，本設備體積小巧造型美觀功能強大，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉加熱樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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實驗室自動卷對卷涂布...實驗室自動卷對卷涂布機是近年來發展起來的一種新興的實驗室儀器。 是電氣控制與機械有機結合的一次成功**。 在涂料生產領域，可節省大量原材料，提高生產工藝； 關鍵是在實驗的基礎上，涂層的重現性大大提高。 專為高校、科研院所、企業實驗室的電池材料研發和材料檢測而設計制造
技術文章
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磁控濺射鍍膜儀的簡介
磁控濺射鍍膜儀的簡介磁控濺射鍍膜儀是一種**的表面鍍膜裝備，其能夠通過...[詳情]
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