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三靶直流磁控濺射鍍膜儀三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜...
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍... 本設備為三靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層
三靶向上磁控濺射鍍膜儀三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬...
雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效...
臺式緊湊型三靶磁控濺射... CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，...
帶過渡艙型雙靶磁控濺射... 本設備為雙靶磁濺射控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品...
三英寸三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬...
臺式射頻電源單靶磁控濺... 本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備...
桌面型下置靶不銹鋼腔體... 本設備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用...
桌面型射頻磁控濺射鍍膜... 本設備為射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品...
桌面型偏壓單靶磁控濺射... 本設備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設備同時配有偏壓電源，可以用來進行進行濺射前的等離子清洗...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 本設備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗...
桌面型單靶磁控濺射鍍膜... 本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣... 帶振動樣品臺的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源...
桌面型石英腔體單靶磁控... 本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電...
桌面型偏置靶單靶磁控鍍... 單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限...

豫公網安備 41019702002438號