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行星式單靶磁控鍍膜儀本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備...
桌面型靶下置型磁控鍍膜... 本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電...
傾斜樣品臺式單靶磁控鍍... 本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁... 雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
?桌面型雙靶直流磁控鍍... ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，尤其是實驗室SEM樣品...
雙靶DCRF磁控濺射鍍... 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流...
?雙靶DCRF磁控濺射... ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復樣品臺）配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄...
桌面型單靶磁控鍍膜儀（... 本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個高性能...
桌面型單靶磁控鍍膜儀本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電...
UPS三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構，將設...
往復樣品臺單靶磁控鍍膜... 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
三靶磁控濺射鍍膜儀雙電... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
分體式單靶磁控鍍膜儀本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備...
雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
磁控濺射/真空蒸發復合... 磁控濺射/真空蒸發復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...

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